电子发烧友网综合报道
近日，国产光刻八亿时空宣布其KrF光刻胶万吨级半导体制程高自动化研发/量产双产线顺利建成，百吨标志着我国在中高端光刻胶领域的胶树自主化进程迈出关键一步。

此次建成的脂产KrF光刻胶产线采用“研发+量产”双轨并行模式，总产能达万吨级，线正是式投目前国内规模领先的KrF光刻胶生产基地。产线集成了高自动化控制系统，国产光刻从原料配比到成品检测的百吨全流程实现智能化管控，不仅大幅提升了生产效率，胶树更确保了产品质量的脂产稳定性。

研发线专注于新型KrF光刻胶配方的线正迭代与工艺优化，将针对不同制程节点的式投需求开展定制化研发；量产线则聚焦规模化生产，可满足130nm至28nm制程的国产光刻光刻工艺需求。这种研产一体的百吨布局，既保证了技术创新的胶树持续性，又能快速响应市场对中高端光刻胶的量产需求。

KrF光刻胶作为半导体制造中的关键材料，主要应用于中高端芯片的光刻工艺，其性能直接影响芯片的分辨率与良率。长期以来，该领域的市场份额被日本信越化学、JSR等少数国际巨头垄断，国内依赖进口的局面始终制约着半导体产业链的自主可控。

八亿时空的KrF光刻胶产线采用了自主研发的核心配方与生产工艺，通过引入先进的洁净车间设计和高精度涂布技术，产品的灵敏度、分辨率等关键指标已达到国际主流水平。

产线的顺利投产，意味着我国在中高端光刻胶领域实现了从实验室研发到工业化生产的跨越，为突破海外技术封锁提供了实质性支撑。

产线达产后预计首年营收将突破亿元大关，未来五年产能将阶梯式增长至200-300吨。目前，公司已与多家头部光刻胶厂商建立合作，产品覆盖逻辑芯片、存储芯片等主流制程。

随着AI芯片、HBM等新兴技术的爆发，高端光刻胶需求年均增速超20%，这条产线有望成为国产替代的核心力量。

随着国内半导体产业的快速发展，光刻胶作为 “芯片制造的灵魂材料”，市场需求持续攀升。据行业数据显示，2024年我国KrF光刻胶市场规模已突破50亿元，年复合增长率超过15%，但国产化率不足10%，供需缺口显著。​

八亿时空预计，该产线在2025年下半年将实现千万元级别的收入规模，随着产能逐步释放，有望在未来3年内占据国内KrF光刻胶市场15%以上的份额。

业内分析认为，此产线的落成将加速国内光刻胶市场的国产化替代进程，推动半导体材料产业链的整体升级，为我国芯片制造产业的自主发展注入新动能。